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适用新型专利的庇护刻日有多长？
我国《专利法》划定，发现专利权的刻日为20年，适用新型专利权和外不雅设计专利权的刻日为10年，均自申请日起计较。
是以，法令对适用新型专利的庇护不是无刻日的，适用新型专利的庇护期是10年，从申请日起计较。
我国对适用新型专利的庇护刻日划定的与发面专利的庇护刻日纷歧样，此中适用新型和外不雅设计的庇护刻日都是一致的，即为10年，但这个庇护刻日的起算点应该是从申请之日起头计较。当然，这时代也需要每年按时交纳专利年费才行。 - 02
适用新型专利庇护规模有哪些？
发现和适用新型专利权的庇护规模“以其权力要求的内容为准，仿单及附图可以用于诠释权力要求”，是指专利权的庇护规模该当以权力要求书中明白记录的需要手艺特征所确定的规模为准，也包罗与该需要手艺特征相等同的特征所确定的规模。
等同特征是指与所记录的手艺特征以根基不异的手段，实现根基不异的功能，达到根基不异的结果，而且本事域的通俗手艺人员无需颠末缔造性劳动就可以或许联想到的特征。
包罗两层寄义：
1.一项发现缔造专利权的庇护规模，须以其权力要求为准，即以由专利申请人提出的并经国务院专利行政本家儿管部分核准的权力要求书中所记录的权力要求为准，不小于也不得超出权力要求书中所记录的权力要求的规模。
2.仿单及附图对权力要求具有诠释的功能，可以作为诠释权力要求的依据。可是，相对权力要求而言，仿单及附图只具有隶属的地位，不克不及单以其作为发现或者适用新型专利权庇护的根基依据，根基依据只能是权力要求书。 - End
